ในงานนี้แผ่นทำความร้อนขนาดเล็กถูกสร้างจากฟิล์มหนาของ Ni-Cr ที่เตรียมด้วยวิธีการสปัตเตอร์ลงบนฐานรองอะลูมินาขนาด 6 มม. x 6 มม. โดยมีเงื่อนไขการสปัตเตอร์ฟิล์มหนาของ Ni-Cr คือ ใช้เวลาสปัตเตอร์ 60 และ 90 นาที ที่ความดันก๊าซอาร์กอน 2 และ 5 มิลลิทอร์ ตามลำดับ แบบของแผ่นทำความร้อนขนาดเล็กสร้างโดยการกัดฟิล์ม Ni-Cr ด้วยเลเซอร์ Nd:YAG โดยมีขนาดความกว้างของลวดลาย / ขนาดของช่องว่าง 350 /350ไมโครเมตร, 500 / 500 ไมโครเมตร และ 1000 / 1000 ไมโครเมตร หลังจากกระบวนการกัดฟิล์มแผ่นทำความร้อนขนาดเล็กถูกทดสอบโดยจ่ายกระแสไฟฟ้าที่ความต่างศักย์ไฟฟ้าต่างๆ แล้วทำการสังเกตอุณหภูมิ พบว่าแผ่นทำความร้อนขนาดเล็กที่ถูกสร้างขึ้นสามารถสร้างอุณหภูมิได้สูงกว่า 400 oC