ในงานวิจัยนี้ได้สังเคราะห์อนุภาคของโพลีเมทิลเมทาคริเลต โดยวิธีอิมัลชั่นโพลีเมอไรซ์เซชั่น อนุภาคที่ได้นี้จะมีประจุลบ หลังจากนั้นเคลือบไคโตซานซึ่งมีประจุบวกลงบนอนุภาคโดยใช้เครื่อง spinning disk reactor ซึ่งอนุภาคที่ได้หลังจากเคลือบด้วยไคโตซานแล้วมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยประมาณ 320 นาโนเมตร และเมื่อส่องดูด้วย transmission electron microscope (TEM) เห็นเป็นสองชั้นโดยชั้นในเป็นโพลีเมทิลเมทาคริเลต และชั้นนอกเป็นไคโตซาน ใช้ fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR) เพื่อตรวจสอบหมู่ฟังก์ชั่นของเมทิลเมทาคริเลต และไคโตซาน และศึกษาพฤติกรรมการสลายตัวด้วยความร้อนของโพลีเมทิลเมทาคริเลต และไคโตซานซึ่งสลายตัวที่ 382 C และ 315C ตามลำดับ